当年日本人生产锂电池，需要在超净车间进行，因此当年锂电池超级贵。大陆人改进工艺，将锂电池生产的少数几道工序在小型超净密闭箱中完成，因此大幅降低成本，工艺也适合普及，大幅降低了行业的进入门槛。
于是，对于半导体生产行业，我也有同样的想法......
中国科技最近的一个进步，使我看到了希望。22纳米光刻技术可以被应用于生产I7CPU芯片。
台湾半导体的好日子是过一天少一天了。中兴的耻辱，蔡大姐的附和制裁，大陆人民已经牢记在心，未来台湾会收到回报的。
用365纳米的刀刻出22纳米的效果，中国造出新式光刻机
11月29日，中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。
中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备(供图：中科院科技摄影联盟)
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“ASML的EUV光刻机使用的13.5纳米的极紫外光源，价格高达3000万元，还要在真空下使用。”项目副总师胡松说，“而我们使用的365纳米紫外光的汞灯，只要几万元一只。我们整机价格在百万元级到千万元级，加工能力介于深紫外级和极紫外级之间，让很多用户大喜过望。”
(来源：https://www.yidianzixun.com/article/0KiINPvF?title_sn=0)
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